面向 EUV/ArF/KrF 光刻胶、显影液、BARC、NTD/RRC 溶剂与高粘度 PI 的本体过滤与点供(POU)过滤。光刻胶相关应用优先推荐以下系列,详见光刻胶过滤专题。
覆盖强酸强碱、稀酸碱、剥离液、超纯水/DI 水、大宗化学品、FPD 面板、油墨以及制药/食品/实验室应用的全系列过滤器与滤芯。
点供与本体浆料过滤,在去除大颗粒的同时保留研磨粒径分布,覆盖先进节点 CMP 与后 CMP 清洗。
标准筒式滤芯(需配滤壳使用),覆盖 PES/PP/PTFE 膜材,应用于微电子化学品、超纯水、制药与食品饮料过滤。光化学品专用滤芯(Microgard 等)见光刻胶标签。
与滤芯配套的滤壳与歧管:高洁净聚合物滤壳、不锈钢单芯/多芯滤壳,覆盖本体到机台端的安装需求。滤芯插口(2-226/2-222/平口)必须与滤壳匹配。