MOCVD 气体系统的水、氧及颗粒控制要求需按外延工艺和设备规范确定。气源纯度不能直接代表反应腔入口质量；应分别核对气源、输送管路、点供纯化与颗粒过滤。
气源端：记录气体种类、入口杂质及其波动、流量和压力。厂务级纯化系统按具体气体与目标杂质选择；不能仅凭总纯度等级或 GateKeeper 系列名称确定配置。
管路环节：管材、连接、施工后的吹扫与检漏按设备和项目规范执行。接头、阀门和软管连接段可列入检查清单；检测方法、采样位置、检出限及验收标准应书面约定。
设备入口点供纯化（POU）：评估设备入口的污染控制需求后，再按气体、纯化介质、型号、入口杂质、流量、温压和目标出口指标选择 GateKeeper GPU 等候选产品。不能将某一介质或型号的 ppbV/pptV 数据推广为全系列的现场保证，也不能在没有成本与寿命数据时作投入产出比较。
颗粒过滤：颗粒过滤与气态杂质纯化分别选型。Wafergard NF 等候选过滤器的膜材、接气材料、温压范围和接口需按完整型号核对；NH₃ 等具体气体的适配应依据当前制造商资料和书面确认，不能只凭“全金属”或“聚合物”材料类别判定。
Entegris GPU NX 数据表将适用气体列为 O₂、CDA，并分别列出出口杂质与运行条件。这说明 GPU 系列名称本身不足以确认 H₂/N₂ 载气适配；NX 数据也不能直接用于 H₂/N₂ 选型。
来源：Entegris GateKeeper GPU NX Media Gas Purifiers 数据表（General Specifications 与 Operating Specifications）；具体项目以当前版本及书面技术确认为准。
内容复核：。本页提供选型核对事项，不替代设备规范、设计审核或现场验收。
产线扩建时,提供气体清单（种类、入口杂质、流量、温压、接口及验收目标），用于按管段评估候选过滤与纯化配置。详见 MOCVD 应用专题。