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光化学品中的痕量金属管控:为什么需要液体纯化器

· 众甫半导体

光化学品中的痕量金属管控:为什么需要液体纯化器
Entegris 产品图(来源:Entegris 官方)

随着工艺节点推进,光刻胶、显影液与高纯化学品中的痕量金属杂质(Fe、Ni、Cu、Na、K、Ca、Al 等)控制要求已进入 ppt 级。金属杂质会造成图形缺陷、器件电性漂移与栅氧完整性问题,是先进节点良率管控的重点之一。

金属杂质来源包括:原料本身、储运容器析出、管路与泵阀部件接触析出,以及过滤器材质释放。因此完整的金杂管控方案通常包括:上游化学品纯化(离子交换纯化器)、低析出包装(NOWPak® / FluoroPure® 高纯桶)、低析出管路(PFA)与终端过滤四个环节。

Entegris 液体纯化器采用功能化膜/离子交换介质,在保持化学品本体性质的同时选择性去除金属离子与阴离子杂质,可安装于化学品生产线、灌装线或供液系统中。选型时需确认介质体系、目标金属与目标浓度、流量与更换周期评估方式。

详见金属离子去除 · 金杂管控专题,或联系我们获取纯化器资料。

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